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ガスクラスターは数百〜数千個のガス原子がゆるく結合した塊で、細いスロートを持つノズルから噴出させる事により生成されます。
シングルイオンビームとガスクラスターイオンビーム(GCIB)の違い
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ガスクラスターイオンビーム(GCIB)発生源の特徴
- ナノオーダーの微細加工に適しています
- Ra 数ナノメートルの平坦化加工
- 反応性ガス処理対応
- 基板表面温度100℃以下での加工可能
ガスクラスターイオンビーム(GCIB)装置は数百〜数千の原子集団からなるクラスターイオンを発生させます。
GCIBのラテラルスパッタ効果により被対象物表面を超平坦化加工、無損傷加工が可能です。
通常のイオンビームでは得られない超低エネルギー照射効果(数eV/atom)とクラスターによる超高密度照射効果(表面改質、高品位薄膜形成)が可能です。
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ガスクラスターイオンビーム(GCIB)照射・応用事例
ダイヤモンドへのGCIB照射加工例
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![](https://www.rmtec.co.jp/wp-content/uploads/products_gcib-sources5.jpg)
![](https://www.rmtec.co.jp/wp-content/uploads/products_gcib-sources6.jpg)
CVDダイヤモンドの平滑化の例
![](https://www.rmtec.co.jp/wp-content/uploads/products_gcib-sources7-720x313.jpg)
タングステンカーバイド金型表面へのGCIB照射加工例
GCIB照射前
![](https://www.rmtec.co.jp/wp-content/uploads/products_gcib-sources8-720x216.jpg)
GCIB照射後
![](https://www.rmtec.co.jp/wp-content/uploads/products_gcib-sources9-720x216.jpg)